Le microscope métallographique vertical par ordinateur HST301-EW offre aux clients des solutions d'analyse métallographique et d'inspection industrielle rentables avec un excellent système d'imagerie
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Demander un devis Fichiers TéléchargementPrésentation du produit :
Le Microscope métallographique vertical par ordinateur HST301-EW offre aux clients des solutions d'analyse métallographique et d'inspection industrielle rentables avec un excellent système d'imagerie et une expérience de fonctionnement confortable. La structure adopte le tube d'observation avec le meilleur angle confortable du lit du nouveau-né, ce qui peut soulager la tension et la fatigue des utilisateurs en état de travail à long terme et assurer le meilleur état d'observation. L'échelle sur le tube d'observation permet aux utilisateurs d'ajuster eux-mêmes la plage de distance optimale entre les pupilles.
Le microscope métallographique vertical par ordinateur HST301-EW intègre un hôte de microscope stable, un dispositif de caméra haute définition et un véritable logiciel d'analyse d'images métallographiques, qui peuvent fournir aux utilisateurs une gamme complète de solutions efficaces de détection et d'analyse de structures métallographiques.
Ce microscope est largement utilisé dans l'analyse de la structure métallographique des matériaux métalliques (y compris la perlite, le taux de sphéroïdisation, la taille des grains, la morphologie du graphite, etc.), l'analyse métallographique de l'enseignement et de la recherche scientifique, la mesure d'ingénierie de précision et d'autres domaines. C'est un outil indispensable et important dans la science des matériaux, l'ingénierie métallurgique, la fabrication de machines et d'autres industries.
Fonction mémoire de luminosité
La fonction de mémoire de luminosité peut mémoriser la luminosité de l'éclairage lors de l'utilisation de chaque objectif et ajuster automatiquement l'intensité lumineuse lorsque différents objectifs sont commutés.
Toutes les séries d'objectifs semi-apochromatiques à fond clair
Les objectifs utilisent des lentilles à haute transmission et une technologie de revêtement avancée pour restaurer véritablement la couleur naturelle de l'échantillon. La conception semi-apochromatique présente d'excellentes performances de correction de l'aberration chromatique, ce qui améliore le contraste et la clarté de l'image observée.
Caméra à puce Sony haute définition
La caméra est une caméra CMOS à monture C dotée d'un capteur CMOS Sony, une caméra de microscope métallographique idéale pour l'imagerie par microscopie en champ lumineux de haute qualité en fond clair, en fond noir, polarisée, à faible luminosité et en fluorescence, adaptée aux applications de science des matériaux.
Assemblage d'images
Le logiciel de mesure d'image peut être réalisé en déplaçant la scène. Le processus d'assemblage manuel d'images peut réaliser la fonction d'assemblage d'images de différents grossissements pour obtenir une image claire avec un grand champ de vision.
Fusion de profondeur de champ en temps réel
La fonction de synthèse de profondeur de champ du logiciel de mesure d'image vous permet de faire pivoter le microscope pour affiner différents points de profondeur de champ tandis que la caméra élargit immédiatement la profondeur de champ de l'image microscopique en temps réel. Les détails de l'ensemble du cadre sont clairs en un coup d'œil et vous ne verrez plus jamais d'images floues !
Paramètres techniques
Nom | Spécification |
Système optique | Système optique corrigé de l'aberration chromatique à l'infini |
Tube d'observation | Inclinaison à 30°, tube d'observation à trois voies articulé à l'infini, réglage de la distance pupillaire : 50 mm ~ 75 mm, réglage dioptrique d'un seul côté : -2/+8 dioptries, rapport de division à deux vitesses R:T=100:0 ou 50:50 |
Oculaire | Point oculaire élevé et large champ de vision oculaire à champ plat SWH10X/23 mm (dioptrie réglable) |
Objectif | Objectif métallographique à champ clair semi-composé à champ plat 5X/NA0.15 WD15 |
Objectif métallographique à champ clair semi-composé à champ plat 10X/NA0.30 WD8.4 | |
Objectif métallographique à champ clair semi-composé à champ plat 20X/NA0.45 WD3.0 | |
Objectif métallographique à champ clair semi-composé à champ plat 50X/NA0.75 WD3.0 | |
Objectif métallographique à champ clair semi-composé à champ plat 100X/NA0.90 WD1.0(facultatif) | |
Convertisseur d'objectif | Convertisseur de champ lumineux à 5 trous de positionnement interne de haute précision, fonction de mémoire de luminosité. |
Mécanisme de mise au point | Mécanisme de mise au point coaxial grossier et fin à position basse, course de réglage grossière 30 mm,précision de réglage fin 0,001 mm. Avec dispositif de réglage de la tension pour éviter tout glissement et dispositif de limite supérieure aléatoire. Avec mécanisme de réglage haut et bas de la position de la plate-forme, hauteur maximale de l'échantillon 40 mm. |
Scène | Plate-forme mobile mécanique à double couche, position basse de la main X, réglage coaxial dans la direction Y ; zone de plate-forme 240X175mm, surface de travail : 135X125mm, plage de déplacement : 75mmX50mm, peut être équipée d'une scène métallique pour la réflexion. |
Système d'éclairage réfléchi | Large tension adaptative 100V-240V_AC50/60Hz, salle de lampe réfléchissante, unique haute puissance 10WLED, couleur chaude, éclairage Kohler, avec diaphragme de champ et diaphragme d'ouverture, centre réglable, |
Composant polarisant | Analyseur, polariseur. |
Autres accessoires | Accessoires photographiques : monture C 0,5X, mise au point réglable ; |
Puce Sony FEG Appareil photo 12 mégapixels, système d'imagerie informatique FCL-RS | |
Logiciel d'analyse d'images métallographiques FMIA2025, micromètre de haute précision (valeur de grille 0,01 mm) | |
Ordinateur | Ordinateur professionnel de marque(facultatif) |